90纳米光刻机能干什么？ 2024-04-17 公司新闻 by admin 90nm光刻机经过两次曝光，可以制成45nm的芯片，三次曝光后可以制成22nm的芯片。 但是曝光次数越多，芯片的良品率就越低，漏电率越高，所以大都用来制造28nm芯片。 再看ASML，EUV光刻机... 标签：纳米 光刻 机能 干什么 90nm 光刻机 经过 两次 pr光刻胶和pi光刻胶区别？ 2024-04-14 电源知识 by admin 前者是国产的，后者是国外的... 标签：光刻 胶 和 区别 前者 是 国产 的 后者 国外 光刻胶和测封有什么关系？ 2024-03-24 电源资讯 by admin 光刻胶在芯片制造过程中的材料，封测是芯片制造好以后，进行最后一道工序，封测。... 标签：光刻 胶 和 测封 有 什么 关系 在 什么是立体光刻技术？ 2023-11-29 公司新闻 by admin 集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。随着半导体技术的发展，光刻技术传... 标签：什么 是 立体 光刻 技术 集成电路 制造中 芯片制造六大工艺？ 2023-10-21 电源知识 by admin 2、光刻 (用紫外线透过蒙版照射硅晶圆, 被照到的地方就会容易被洗掉, 没被照到的地方就保持原样. 于是就可以在硅晶圆上面刻出想要的图案. 注意, 此时还没有加入杂质, 依然是一个硅... 标签：芯片 制造 六大 工艺 、 光刻 用 紫外线 透过
